Nauka innov. 2012, 8(2):34–38
https://doi.org/10.15407/scin8.02.034

П. Чапон1, О.К. Костенко2
1HORIBA Scientific, Лонжюмо (Франция)
2ПАТ «Макрохим», Киев

 

Характеризация элементного распределения по глубине пленок и покрытий методами RF GD-OES и TOFMS™

Раздел: Мир инноваций
Язык статьи: русский
Аннотация: Описаны методы оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего ВЧ-разряда. Приведены характеристики плазмы тлеющего разряда, позволяющие выполнять эрозию поверхности с высокой скоростью.
Ключевые слова: плазма тлеющего разряда, элементное распределение, тонкие пленки, анализ поверхности.

Полный текст (PDF)

Литература:
1. Marcus K., Broeckaert J. Glow Discharge Plasmas in Analytical Spectroscopy. John Wiley & Sons, Chichester (2003) Ch 2, 15-69.
2. Nelis T., Payling R. Practical Guide to Glow Discharge Optical Emission Spectrometry. RSC Analytical Spectroscopy Monographs; RSC 2003, 212 р.
3. Escobar R. et al. Towards nanometric depth resolution in multilayer depth profiling: a comparative study of RBS, SIMS, XPS and GDOES. Anal. Bioanal. Chem. (2010), 396: 2725-2740.
4. Tempez A. et al. «18O/16O isotopic separation in anodictantala films by glow discharge time-of-flight mass spectrometry», Surface and Interface Analysis, 41, 966-973 (2009).
5. Le Coustumer P., Chapon P., Tempez A. et al. «Thin and thick films analysis» chapter 26 of Applied Handbook of Mass Spectrometry. John Wiley & Sons (2006), 72-80.
6. Shimizu K., Mitani T. New Horizons of Applied Scanning Electron Microscopy. Springer. 1st Edition., 2010, 182 p.