1Руденко, ЭМ, 1Короташ, ИВ, 2Семенюк, ВФ, 3Шамрай, КП
1Институт металлофизики им. Г.В. Курдюмова НАН Украины, Киев
2Інститут металофізики ім. Г.В. Курдюмова НАН України, Київ
3Інститут ядерних досліджень НАН України, Київ
Nauka innov. 2010, 6(3):36-38
https://doi.org/10.15407/scin6.03.036
Рубрика: Научно-технические инновационные проекты Национальной академии наук Украины
Язык: Украинский
Аннотация: 
Создан вакуумно-плазменный модуль – специализированную технологическую установку прецизионного размерного травления и многофункциональной ионно-плазменной обработки. В основу установки положена двухразрядная система, состоящая из источника высокоселективного плазмохимического травления и источника высокоанизотропного реактивно-ионного травления. Установка предназначена для формирования структур элементной базы наноэлектроники и топологии наноприборов, термоэмиссионных источников, элементов преобразования солнечной и тепловой энергии в электрическую.
Ключевые слова: вакуумно-технологическое оборудование, геликонный источник плазмы, емкостный магнетронный ВЧ-источник плазмы, ионно-плазменные технологии, нано- и микроэлектроника
Ссылки: 

1. Shinohara S., Shamrai K.P. Effect of electrostatic waves on a rf field penetration into highly collisional helicon plasmas // Thin Solid Films. − 2002. − V. 407. − № 1-2. − P. 215-220.
2. Кралькина Е.А. Индуктивный высокочастотный разряд низкого давления и возможности оптимизации источников плазмы на его основе // УФН. – 2008. − Т. 178. − № 5. − С. 519-540.
3. Руденко Е.М., Короташ І.В., Семенюк В.Ф., Шамрай К.П. Установка для прецизійного іонно-плазмового формування вуглецевих нанотрубок в єдиному вакуумнотехнологічному циклі // Nauka innov. 2009. 5(5):5-8.
https://doi.org/10.15407/scin5.05.005